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關(guān)于專利申請的十大誤區(qū),你必須知道!

發(fā)布時間:2025-06-02 點(diǎn)擊:38
關(guān)于專利申請的十大誤區(qū),你必須知道!
美國專利界有句名言:“凡是太陽底下的新東西都可以申請專利。”這也告訴人們,只要是由人發(fā)明創(chuàng)造出來的新事物,都可以拿來申請專利。但是現(xiàn)實(shí)生活中有不少發(fā)明家,認(rèn)為既然自己發(fā)明了新產(chǎn)品,申請專利只不過是走個形式而已,只要簡單填寫資料,就能申請成功。其實(shí)這樣的觀念是錯誤的,申請專利的過程存在著許多誤區(qū),一不小心就會中招。
下面小七就給大家羅列出專利申請的十大誤區(qū),大家可都要擦亮眼睛好好看看,千萬不要被這些誤區(qū)給坑了!
誤區(qū)一、自主研發(fā)成果不申請專利就有知識產(chǎn)權(quán)
不少人認(rèn)為,只要是自主研發(fā)的創(chuàng)新成果,就擁有了自主知識產(chǎn)權(quán)。而事實(shí)上是,自主研發(fā)的技術(shù)成果如果不申請專利,就無法得到法律的確認(rèn)和保護(hù)。
在我國,對于專利申請采取“先申請原則”,兩個以上的人就同一發(fā)明分別提出申請時,不問其作出該項發(fā)明的時間的先后,而按提出專利申請時間的先后為準(zhǔn),即把專利權(quán)授予最先提出申請的人。
因此,若是發(fā)明人沒有對創(chuàng)新成果及時申請專利,卻被他人搶先申請并授予了專利權(quán),那么發(fā)明人是無法追究他人的法律責(zé)任的。
誤區(qū)二、產(chǎn)品投入大規(guī)模生產(chǎn)后才去申請專利
不少人認(rèn)為,等到產(chǎn)品投入到大規(guī)模生產(chǎn)之后,才是申請專利的好時機(jī)。其實(shí)到了這個時候,你再去申請專利,已經(jīng)晚了。哪怕僥幸獲得授權(quán),專利也處在不穩(wěn)定的狀態(tài)之中。此時你若是發(fā)現(xiàn)他人侵權(quán)的現(xiàn)象,也會被侵權(quán)人以專利申請之日技術(shù)已經(jīng)被公開的理由反擊,還可能面臨錢財兩空的風(fēng)險。
誤區(qū)三、改進(jìn)過后的專利產(chǎn)品不需要再申請專利
有些技術(shù)人員認(rèn)為,只要申請了專利,就后顧無憂了,哪怕之后改進(jìn)了產(chǎn)品,也不需要再次申請。這樣的觀念是錯誤的。
改進(jìn)過后的專利產(chǎn)品若不及時申請專利,當(dāng)有其他人對此產(chǎn)品進(jìn)行改進(jìn)并申請了專利,那么原專利權(quán)人不僅無法對自己的產(chǎn)品更新?lián)Q代,還在不經(jīng)意間變成了侵權(quán)人,喪失了自己的知識產(chǎn)權(quán)。
誤區(qū)四、一項技術(shù)成果只能申請一項專利
一項技術(shù)成果只能申請一項專利?其實(shí)不然。我國專利法規(guī)定的專利類型有三類,分別是發(fā)明專利、實(shí)用新型專利、外觀設(shè)計專利。一項產(chǎn)品發(fā)明可同時申請多種專利,技術(shù)方案也可以同時申請實(shí)用新型以及發(fā)明專利。
一般說來,實(shí)用新型專利4-7個月左右可以授權(quán),而發(fā)明專利則要1年多的時間。因此,若是發(fā)明人急于獲得專利授權(quán),那么可以同時申請發(fā)明專利和實(shí)用新型專利。值得一提的是,可以同時申請實(shí)用新型和發(fā)明的發(fā)明創(chuàng)造,必定是與結(jié)構(gòu)有關(guān)的創(chuàng)新。
誤區(qū)五、獲得了專利證書就獲得了有效的專利權(quán)
獲得了專利證書就獲得了有效的專利權(quán),這是多數(shù)專利權(quán)人的普遍認(rèn)識誤區(qū)。以外觀設(shè)計專利申請為例,在中國,外觀設(shè)計專利提出申請之后,按照專利法的規(guī)定,是不需要進(jìn)行實(shí)質(zhì)審查的。因此,即使之前有人就相同的技術(shù)方案申請過相同的專利,你的申請仍有很大的幾率被批準(zhǔn)。
若是在專利有效期內(nèi),沒有人對你的專利提出異議或是有人提出無效宣告但復(fù)審委員會經(jīng)過復(fù)審后維持了你的專利權(quán),你的專利才是真正有效的專利。
誤區(qū)六、技術(shù)方案交代不清楚
不少發(fā)明人在提交專利申請文件時,對技術(shù)方案一筆帶過,或是以技術(shù)保密為由不肯透露更多的技術(shù)方案,導(dǎo)致技術(shù)方案公開不充分。事實(shí)證明,若是一件專利在申請時被審查員以技術(shù)方案公開不充分為由發(fā)出審查意見通知書,那么專利申請極大的概率被駁回。
誤區(qū)七、專利申請前不做任何檢索
不少人在專利申請各種資料報表都準(zhǔn)備好了,卻懶于做查新檢索,這是十分不明智的。如果有人先前已經(jīng)就某一技術(shù)方案申請過專利或者在相關(guān)文獻(xiàn)中公開,你在沒有檢索的情況下也就這一技術(shù)方案申請專利,是不會有任何成效的。
誤區(qū)八、先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利
由于發(fā)表論文或者成果鑒定會向大眾公開技術(shù)內(nèi)容,會導(dǎo)致專利申請失去新穎性而得不到保護(hù),因此小七不建議大家發(fā)布論文或成果鑒定后再申請專利。
誤區(qū)九、對專利缺乏有效的管理
現(xiàn)實(shí)生活中,企業(yè)申請了專利卻不好好管理,造成時間、精力、錢財損失的案例比比皆是。有的是專利文件之間互相沖突,有的是專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但由于對專利特征不了解,不能及時提起訴訟。
誤區(qū)十、沒有長遠(yuǎn)的專利戰(zhàn)略規(guī)劃
一個企業(yè)應(yīng)該對自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認(rèn)識。只有這樣,才能找到技術(shù)突破口,排除他人專利障礙,確立自己的專利優(yōu)勢,從而贏得更加廣闊的市場。因此,有計劃地實(shí)施專利戰(zhàn)略對于企業(yè)極其重要。
縱觀全文,大家是不是對專利申請的十大誤區(qū)有了清楚的認(rèn)識了呢?大家若是還有什么疑問,都可以在文末留言給小七,小七會為你們盡情解答的~


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